Источник: nanonewsnet.ru
В технике фотолитографии излучение используется для создания изображения на светочувствительной поверхности. В соответствии с законами физики всегда существует прямая зависимость между размером формируемого изображения и длиной волны излучения, что для получения все более мелких деталей изображения в свою очередь ставит процессы нанолитографии в зависимость от коротковолнового ультрафиолетового излучения. Метод RAPID литографии позволяет получать разрешение деталей изображения в 20 раз выше, чем при традиционной ультрафиолетовой литографии, что должно существенно стимулировать нанопроизводство и некоторые другие области электроники, оптики и биомедицины.
«Если вам в последнее время ставили пломбу на зуб, то вы, конечно, обратили внимание на то, что полость в зубе заполняют некой вязкой жидкостью, которая затем твердеет при облучении синим светом. Аналогичный процесс отверждения при облучении используется как первый элемент RAPID», – объясняет проф. Фуркас, – «Теперь, представьте себе, что дантист использует второй источник света для остановки процесса твердения пломбы в определенных местах с тем, чтобы придать ей особую форму. Мы разработали способ использования второго источника излучения для подобного формования в литографии, что позволяет нам создавать детали изображения в 2500 раз меньше толщины человеческого волоса».
Оба источника лазерного излучения, использованные группой проф. Фуркаса, имели ту же самую длину волны. Отличие заключалось в том, что лазер, использованный учеными для отверждения материала, генерировал короткие импульсы излучения, а лазер, останавливавший твердение, работал в непрерывном режиме. Пучок излучения от второго лазера пропускали через специальную оптическую систему для придания ему необходимой формы для формирования деталей изображения.
В настоящее время группа проф. Фуркаса работает над усовершенствованием метода RAPID литографии, что сделает возможным повысить разрешение в изображении еще, по крайней мере, вдвое.